潔(jie)淨(jing)室(shi)的溫(wen)濕(shi)度(duo)主要是根據工(gong)藝要求來(lai)確定，但在(zai)滿足工(gong)藝要求的條件下，應(ying)考慮到(dao)人的舒適度(duo)感。隨著空(kong)氣(qi)潔(jie)淨(jing)度(duo)要求的提(ti)高，出現了工(gong)藝對溫(wen)濕(shi)度(duo)的要求也越來(lai)越嚴的趨勢。淨(jing)化(hua)工(gong)程(cheng)具體(ti)工(gong)藝對溫(wen)度(duo)的要求以後還要列舉，但作(zuo)為總的原則看，由於(yu)加工(gong)精度(duo)越來(lai)越精細，所(suo)以對溫(wen)度(duo)波動範圍的要求越來(lai)越小。例(li)如在(zai)大(dai)規(gui)模集成電(dian)路(lu)生(sheng)產(chan)的光刻曝光工(gong)藝中(zhong)，作(zuo)為掩膜板(pan)材料(liao)的玻璃與矽片的熱(re)膨脹係(ji)數(shuo)的差要求越來(lai)越小。直徑100 um的矽片，溫(wen)度(duo)上升1度(duo)，就引起了0.24um線(xian)性(xing)膨脹，所(suo)以必須有(you)±0.1度(duo)的恒溫(wen)，同時要求濕(shi)度(duo)值一般較低，因為人出汗以後，對產(chan)品(pin)將有(you)汙染，特別是怕鈉的半導體(ti)車(ju)間(jian)，這種車(ju)間(jian)不宜超過25度(duo)。

濕(shi)度(duo)過高產(chan)生(sheng)的問題更多。相對濕(shi)度(duo)超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生(sheng)在(zai)精密裝置或電(dian)路(lu)中(zhong)，就會引起各種事故。相對濕(shi)度(duo)在(zai)50%時易生(sheng)鏽。此外，濕(shi)度(duo)太高時將通(tong)過空(kong)氣(qi)中(zhong)的水分(fen)子(zi)把矽片表麵(mian)粘著的灰塵(chen)化(hua)學(xue)吸附在(zai)表麵(mian)耐難以清除。相對濕(shi)度(duo)越高,粘附的難去掉，但當相對濕(shi)度(duo)低於(yu)30%時，又由於(yu)靜(jing)電(dian)力的作(zuo)用(yong)使粒子(zi)也容易吸附於(yu)表麵(mian)，同時大(dai)量半導體(ti)器(qi)件容易發生(sheng)擊穿。對於(yu)矽片生(sheng)產(chan)最佳溫(wen)度(duo)範圍為35—45%。

對於(yu)大(dai)部分(fen)潔(jie)淨(jing)空(kong)間(jian)，為了防止外界汙染侵入，需要保(bao)持內(nei)部的壓力（靜(jing)壓）高於(yu)外部的壓力（靜(jing)壓）。壓力差的維持一般應(ying)符合以下原則： 　　

1．潔(jie)淨(jing)空(kong)間(jian)的壓力要高於(yu)非潔(jie)淨(jing)空(kong)間(jian)的壓力。 　　

2．潔(jie)淨(jing)度(duo)級別高的空(kong)間(jian)的壓力要高於(yu)相鄰的潔(jie)淨(jing)度(duo)級別低的空(kong)間(jian)的壓力。 　　

3．相通(tong)潔(jie)淨(jing)室(shi)之間(jian)的門(men)要開向潔(jie)淨(jing)度(duo)級別高的房(fang)間(jian)。 　　

壓力差的維持依靠新(xin)風(feng)量，這個新(xin)風(feng)量要能補償在(zai)這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(feng)量。所(suo)以壓力差的物(wu)理(li)意義就是漏泄（或滲透）風(feng)量通(tong)過潔(jie)淨(jing)室(shi)的各種縫隙時的阻力。       

這裏要討論的氣(qi)流速度(duo)是指潔(jie)淨(jing)室(shi)內(nei)的氣(qi)流速度(duo)，在(zai)其他潔(jie)淨(jing)空(kong)間(jian)中(zhong)的氣(qi)流速度(duo)在(zai)討論具體(ti)設備(bei)時再說明。 　　

對於(yu)亂流潔(jie)淨(jing)室(shi) 由於(yu)主主要靠空(kong)氣(qi)的稀釋作(zuo)用(yong)來(lai)減輕室(shi)內(nei)汙染的程(cheng)度(duo)，所(suo)以主要用(yong)換氣(qi)次數(shuo)這一概念，而不直接用(yong)速度(duo)的概念，不過對室(shi)內(nei)氣(qi)流速度(duo)也有(you)如下要求： 　　

(1)送風(feng)口出口氣(qi)流速度(duo)不宜太大(dai)，和單純空(kong)調(diao)房(fang)間(jian)相比，要求速度(duo)衰減更快，擴散角度(duo)更大(dai)。 　　

(2)吹過水平麵(mian)的氣(qi)流速度(duo)（例(li)如側送時回流速度(duo)）不宜太大(dai)，以免吹起表麵(mian)微粒重返氣(qi)流，而造成再汙染，這一速度(duo)一般不宜大(dai)幹0.2m/s。 　　

對於(yu)平行流潔(jie)淨(jing)室(shi)《習慣上稱層流潔(jie)淨(jing)室(shi)），由於(yu)主要靠氣(qi)流的“活塞打擠壓作(zuo)用(yong)排(pai)除行染，所(suo)以截麵(mian)上的速度(duo)就是非常重要的指標。過去都參(shen)考美國(guo)20gB標準，采用(yong)0.45m/s．但人們也都了解(xie)到(dao)這樣大(dai)速度(duo)所(suo)需要的通(tong)風(feng)量是極大(dai)的，為了節能，也都在(zai)探求降低速一風(feng)速的可行性(xing)。 　

在(zai)我國(guo)，《空(kong)氣(qi)潔(jie)淨(jing)技(ji)術措施》和《潔(jie)淨(jing)廠(han)房(fang)設計規(gui)範》都是這樣規(gui)定的 　　

垂直平行流（層流）潔(jie)淨(jing)室(shi)≥0.25m/s 　　

水平平行流（層流）潔(jie)淨(jing)室(shi)≥0.35 m/s 　　

研究表明以上規(gui)定基本上滿足控(kong)製(zhi)汙染的要求，但認為應(ying)區(ou)別不同情況分(fen)出不同的檔別，更能體(ti)現節能的目的。